Beschreibung

CarbX PPS-CF10 – Carbonfaserverstärkt. Chemikalienresistent. Hochtemperaturfähig.

CarbX PPS-CF10 ist ein carbonfaserverstärktes Hochleistungsfilament auf Basis von Polyphenylensulfid (PPS) für den industriellen 3D-Druck im FFF-Verfahren. Entwickelt für Anwendungen mit extremen thermischen, mechanischen und chemischen Anforderungen, eignet sich das Material ideal für den Einsatz in sicherheitskritischen Bereichen wie Maschinenbau, Automotive, Luftfahrt oder Chemieanlagen.

PPS-CF10 zeichnet sich durch eine besonders hohe Wärmeformbeständigkeit von über 250 °C, eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber aggressiven Medien (z. B. Säuren, Laugen, Kraftstoffe, Lösungsmittel) sowie eine natürliche Flammwidrigkeit (UL94 V0) aus. Durch den hohen Anteil an industriellen Carbonfasern erhält das Material zusätzlich eine exzellente Steifigkeit und dimensionsstabile Druckeigenschaften.

Trotz dieser Leistungsdaten kann das Filament auf offenen Systemen verarbeitet werden – ein aktiver Bauraum ist nicht zwingend erforderlich. Für den finalen Eigenschaftsausbau ist ein Tempering nach dem Druck empfohlen

Technische Merkmale im Überblick

• Wärmeformbeständigkeit (HDT/A): > 250 °C

• Kurzzeitige Temperaturspitzen: > 300 °C

• Chemikalienbeständigkeit: Sehr hoch – auch gegen Säuren, Basen, Treibstoffe und Lösungsmittel

• Flammschutz: UL94 V0 (selbstverlöschend)

• Zugmodul: ~9500 MPa

• Carbonfasergehalt: 10 %

• Schlagzähigkeit: Hoch (bruchzäh, auch bei erhöhten Temperaturen)

• Elektrisch: Nicht leitend – ideal für Elektronikkomponenten ohne ESD-Funktion

• Feuchtigkeitsaufnahme: Gering

• Maßhaltigkeit: Sehr gut, formstabil nach Tempern

• Farbe: Anthrazit-Schwarz,

 Verarbeitungshinweise

• Düsentemperatur: 310–330 °C

• Heizbett: 100–120 °C

• Bauraum: empfohlen, aber nicht zwingend (offen druckbar mit Brim/Raft)

• Kühlung: deaktiviert

• Druckplatte: strukturiertes PEI, ggf. mit Haftvermittler

• Düse: gehärtet erforderlich (Tungsten Carbide oder DiaNoz)

• Trocknung: 24–48 h bei 90–95 °C

• Nachbearbeitung: Tempern empfohlen, um die kristalline Struktur voll auszubilden (z. B. 220 °C für 2 h)

Typische Anwendungsbereiche

• Funktionale Bauteile in Hochtemperaturumgebungen

• Chemikalien- oder medienberührte Komponenten

• Sensor- und Aktorgehäuse

• Komponenten in der Luftfahrttechnik

• Halterungen und Vorrichtungen im Automotive-Bereich

• Isolierkörper, Dichtträger, Maschinenkomponenten

• Bauteile im Werkzeug- und Formenbau